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新聞動(dòng)態(tài)
工業(yè)大盤點(diǎn)的風(fēng)吹到了半導(dǎo)體設(shè)備
來源:   作者:蘇州亞平電子有限公司  閱讀:2490次

過程控制:半導(dǎo)體晶圓制造過程中不同工藝之后,往往需要進(jìn)行尺寸測(cè)量、缺陷檢測(cè)等,用于工藝控制、良率管理,要求快速、準(zhǔn)確。尺寸測(cè)量、缺陷檢測(cè)等應(yīng)用于每道制程工藝之后。IC量測(cè)設(shè)備用于工藝控制、良率管理,檢測(cè)要求快速、準(zhǔn)確、非破壞。IC量測(cè)在發(fā)展過程中,在尺寸微縮、復(fù)雜3D、新型材料方面面臨各類技術(shù)難點(diǎn),面對(duì)諸如存儲(chǔ)、CIS、化合物半導(dǎo)體等不同半導(dǎo)體檢測(cè)等多種需求不斷升級(jí)。IC量測(cè)設(shè)備的技術(shù)類別包括探針顯微鏡、掃描/透射電鏡、光學(xué)顯微鏡、橢偏/散射儀等,技術(shù)發(fā)展方向包括延續(xù)現(xiàn)有的非破壞測(cè)量技術(shù),電鏡方面推進(jìn)并行電子束技術(shù),散射儀向EUV、X射線延伸以縮小波長(zhǎng),并聯(lián)合多種測(cè)量手段和機(jī)器學(xué)習(xí)實(shí)現(xiàn)混合測(cè)量等。



過程控制設(shè)備包括應(yīng)用于工藝過程中的測(cè)量類設(shè)備(Metrology)和缺陷(含顆粒)檢查類設(shè)備(Inspection)。芯片生產(chǎn)過程中,在線工藝檢測(cè)設(shè)備要對(duì)經(jīng)過不同工藝后的晶圓進(jìn)行無損的定量測(cè)量和檢查,從而保證工藝的關(guān)鍵物理參數(shù)(如薄膜厚度、線寬、溝/孔深度、側(cè)壁角等)滿足要求,同時(shí)發(fā)現(xiàn)可能出現(xiàn)的缺陷并對(duì)其進(jìn)行分類,剔除不合格的晶圓,避免后續(xù)工藝?yán)速M(fèi)。工藝檢測(cè)設(shè)備的另一個(gè)作用是協(xié)助工藝開發(fā)和試生產(chǎn)時(shí)優(yōu)化設(shè)備運(yùn)行參數(shù)和光掩模的設(shè)計(jì),優(yōu)化整個(gè)工藝流程,縮短開發(fā)時(shí)間,提升成品率并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

半導(dǎo)體量測(cè)Metrology主要包括:

1)套刻對(duì)準(zhǔn)的偏差測(cè)量;

2)薄膜材料的厚度測(cè)量;

3)晶圓在光刻膠曝光顯影后、刻蝕后和CMP工藝后的關(guān)鍵尺寸(CD)測(cè)量;

4)其他:如晶圓厚度,彎曲翹曲(Bow/Warp),1D/2D應(yīng)力stress,晶圓形貌,四點(diǎn)探針測(cè)電阻RS,XPS測(cè)注入含量等,AFM(原子力顯微鏡)/Metal plus(超聲波)測(cè)臺(tái)階高度(Step Height)等。



半導(dǎo)體檢測(cè)Inspection主要包括:

1)無圖形缺陷檢測(cè),包括顆粒(particle)、殘留物(residue)、刮傷(scratch)、警惕原生凹坑(COP)等;

2)有圖像缺陷檢測(cè),包括斷線(break)、線邊缺陷(bite)、橋接(bridge)、線形變化(Deformation)等;

3)掩模版缺陷檢測(cè),包括顆粒等;

4)缺陷復(fù)檢,針對(duì)檢測(cè)掃出的缺陷(位置,大小,種類),用光學(xué)顯微鏡或掃描電鏡確認(rèn)其存在。

發(fā)布時(shí)間:2024/2/2  【打印此頁】  閱讀:2490次
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